【財新網(wǎng)】（記者 翟少輝）當?shù)貢r間3月16日，美光（NASDAQ:MU）發(fā)布公告稱，將立刻停止此前與英特爾合作開發(fā)的3D Xpoint技術(shù)研發(fā)，并將資源轉(zhuǎn)向其他存儲技術(shù)領域。美光將出售其位于美國猶他州Lehi的一處生產(chǎn)該類存儲芯片的工廠，出售預計可在2021年底之前完成。

　　美光總裁兼CEO Sanjay Mehrotra在3月16日的一場電話會中稱，美光放棄上述業(yè)務的決定是基于對其市場機遇的評估，目前美光已與數(shù)個潛在購買方商談Lehi工廠的出售事宜，“我們的目標是在2021年內(nèi)完成出售?！?/P>