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        英特爾調(diào)整芯片工藝命名 計劃2025年奪回領(lǐng)先優(yōu)勢

        2021年07月27日 17:31 來源于 財新網(wǎng)
        可以聽文章啦!
        數(shù)十年來,芯片制程節(jié)點(diǎn)的名稱一直對應(yīng)晶體管頂部柵極的長度?;粮裾J(rèn)為,隨著技術(shù)發(fā)展,新晶體管架構(gòu)出現(xiàn),傳統(tǒng)命名方式早已動搖
        此前,英特爾曾長期在工藝節(jié)點(diǎn)的更新上保持領(lǐng)先優(yōu)勢。但過去數(shù)年,英特爾“7nm”先進(jìn)制程研發(fā)陷入困境,逐漸被臺積電、三星等廠商反超,Intel 4的出貨時間仍需在兩年后。圖/IC photo

          【財新網(wǎng)】(記者 翟少輝)試圖在半導(dǎo)體先進(jìn)制程上重新領(lǐng)跑的英特爾,選擇放棄按晶體管尺寸命名芯片工藝的傳統(tǒng)。

          7月27日,英特爾(INTC.NASDAQ)CEO帕特·基辛格(Pat Gelsinger)在一場線上發(fā)布會上稱,希望新的命名體系能讓客戶對行業(yè)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)有更準(zhǔn)確的認(rèn)知,并表示公司將在2025年奪回市場領(lǐng)先優(yōu)勢。

          基辛格稱,制程節(jié)點(diǎn)命名已是整個行業(yè)所面臨的“令人困惑的問題”。通常,一顆尖端芯片由數(shù)以十億計的晶體管組成,數(shù)十年來,其制程節(jié)點(diǎn)的名稱都對應(yīng)晶體管頂部柵極的長度。

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        責(zé)任編輯:郭瓊 | 版面編輯:劉瀟
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