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        荷蘭發(fā)布光刻機出口管制細則 9月1日生效

        文|財新 杜知航
        2023年06月30日 21:55
        荷蘭政府新頒布的出口管制條例只涉及阿斯麥的TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng),對應精度為2.5納米以下
        荷蘭光刻機廠商阿斯麥(ASML)在6月30日公告稱,荷蘭政府的新出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術(shù),包括最先進的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)。圖:視覺中國

          【財新網(wǎng)】當?shù)貢r間6月30日,荷蘭政府發(fā)布《先進半導體制造設(shè)備法規(guī)》,針對先進半導體制造設(shè)備進行額外出口管制,管制措施將在9月1日生效,屆時,特定先進半導體制造設(shè)備的出口須向荷蘭對外貿(mào)易與發(fā)展合作部申請許可,得到授權(quán)后才能出口。

          荷蘭對外貿(mào)易與發(fā)展合作部部長Liesje Schreinemacher稱,出于國家安全考慮采取了上述政策。她還稱,“對于那些將受到影響的公司來說,知道他們可以期待什么是件好事。這將給他們足夠的時間來適應新規(guī)?!?/P>

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        責任編輯:屈運栩 | 版面編輯:吳秋晗
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