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        日本新增半導(dǎo)體設(shè)備等出口管制 中方堅(jiān)決反對(duì)

        文|財(cái)新 杜知航
        2025年04月03日 19:46
        在美國(guó)的壓力下,多國(guó)政府正在更新出口管制政策,以和美國(guó)對(duì)齊
        當(dāng)?shù)貢r(shí)間2024年12月11日,日本東京,半導(dǎo)體展覽會(huì)上展示的Advantest圖案化晶片。圖:視覺中國(guó)

          【財(cái)新網(wǎng)】日本對(duì)先進(jìn)半導(dǎo)體及設(shè)備等一系列物項(xiàng)增加出口管制措施。4月3日,日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省發(fā)布公告,新增或修訂數(shù)十個(gè)管制物項(xiàng),包括先進(jìn)集成電路芯片、芯片生產(chǎn)裝置、化學(xué)制劑、生物武器、先進(jìn)材料和材料加工裝置等。日本企業(yè)出口相關(guān)物項(xiàng),需先獲得經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣的許可。

          本次新增的受管制物項(xiàng)中,電子器件相關(guān)物項(xiàng)占去大半。除了先進(jìn)集成電路芯片,還有極低溫放大器(參數(shù)信號(hào)放大器)、極低溫冷卻裝置、露光裝置的升級(jí)設(shè)備、納米壓印光刻設(shè)備、用于改進(jìn)極紫外(EUV)光刻過程的設(shè)備、EUV光刻掩模、用于先進(jìn)封裝的ECAD程序和計(jì)算機(jī)光刻程序等。

          推薦進(jìn)入財(cái)新數(shù)據(jù)庫,可隨時(shí)查閱公司股價(jià)走勢(shì)、結(jié)構(gòu)人員變化等投資信息。

        責(zé)任編輯:覃敏 | 版面編輯:許金玲
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